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- 可测大尺寸样品:可测单晶片样品的尺寸为1-4英寸。 
- 可远程操作:提供远程监控模块。 
- 压力控制系统创新设计:高精度控制压力,以满足不同的工艺要求。 
- 存储热处理工艺:方便工艺参数调取,提高实验效率,数据可查询。 
- 快速控温与高真空:最高升温速率可达150℃/s,真空度最高可达到10-3Pa。 
- 程序设定与气路扩展:可实现不同温度段的精确控制,进行降温段的自动转接,并能够对工艺菜单进行保存,方便调用。采用MFC精确控制气体流量,实现不同气氛环境(真空、氮气等)下的热处理。 
- 独特的腔体空间设计:保证大尺寸样品的温场均匀性 ≤1%。 
- 全自动智能控制:采用全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空、冷却水等均可实现自动控制。 
- 超高安全系数:采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,全方位保障设备使用安全。 
- 国产退火炉:拥有自主研发技术和制造能力,能快速反应客户售后需求。 
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                                                       15527275956 商务部周女士
                                           
                                                       18696109905 商务部邹女士
                                            
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