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自立式8吋快速退火炉(RTP-3-08系列)

快速退火炉RTP-3-08系列采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(8英寸)快速升温和降温,可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。
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RTP-3-08的产品特点

  • 可测大尺寸样品:可测单晶片样品的尺寸为8英寸(200mm)。

  • 压力控制系统创新设计:高精度控制压力,以满足不同的工艺要求。

  • 存储热处理工艺:方便工艺参数调取,提高实验效率,数据可查询。

  • 快速升温:最高升温速率可达150℃/s。

  • 程序设定与气路扩展:可实现不同温度段的精确控制,进行降温段的自动转接,并能够对工艺菜单进行保存,方便调用。采用MFC精确控制气体流量,最多可支持4路气体,实现不同气氛环境(真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等)下的热处理。

  • 全自动智能控制:采用全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空、冷却水等均可实现自动控制。

  • 超高安全系数:采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,全方位保障设备使用安全。

  • 分区控温:分区域控制加热功率,提高温度均匀性。

  • 国产退火炉:拥有自主研发技术和制造能力,能快速反应客户售后需求。

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国产快速退火炉
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