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12吋快速退火炉RTP-3C12 在极短时间内对半导体与新材料实现精准的热处理
- 分类： 行业知识
- 作者：管理员
- 来源：本站
- 发布时间：2026-10-28
- 访问量： 2
【概要描述】在半导体与新材料研发中，如何在极短时间内实现精准的热处理？嘉仪通科技（JouleYacht） 给出答···
12吋快速退火炉RTP-3C12 在极短时间内对半导体与新材料实现精准的热处理
【概要描述】在半导体与新材料研发中，如何在极短时间内实现精准的热处理？嘉仪通科技（JouleYacht） 给出答···
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在半导体与新材料研发中，如何在极短时间内实现精准的热处理？
嘉仪通科技（JouleYacht） 给出答案——全新12吋快速退火炉 RTP-3C12，以极速控温与卓越均匀性，助您抢占科研先机！
极速升降温，效率翻倍
采用红外辐射加热及冷壁技术，RTP-3C12 拥有惊人的热响应速度：
极限升温： 裸片可达 100℃/s，SiC石墨托盘 ≤20℃/s。
极速降温： 最大降温速率 ≤100℃/min。
精准控温： 工作温度 300℃~800℃，控温精度高达 ±0.5℃，温度均匀性 ≤1.5%。
大尺寸兼容，应用广泛
最大样品尺寸： Φ300mm，满足大晶圆处理需求。
全能工艺： 支持 RTP（快速热处理）、RTA（快速退火）、RTO（快速热氧化）、RTN（快速热氮化）等。
适用材料： 覆盖 IC晶圆、化合物半导体、石墨烯生长、Mini/MicroLED、MEMS传感器及功率器件等前沿领域。
模块化设计，安全省心
四路供气： 最多可提供 4路 MFC 气体流量控制。
真空系统： 支持腔体抽真空处理。
双重冷却： 水循环冷却模块保护，支持厂务水冷或水冷设备二选一。
您的先进材料热处理专家。
无论是薄膜沉积、离子注入退火还是晶体生长，RTP-3C12 都能为您提供洁净、精准、高效的实验环境。
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