电子束缺陷检测系统-eVC Series

eVC Series是大束流高速扫描检测晶圆缺陷设备(EBI),主要产品包括适用于12寸晶圆的eVC 1000型号,具有包括扫描电子显微镜在内的核心零部件的全部自主知识产权。该产品具备<2nm高解析度,高取样速度,超大范围的电子束流,主动式诱发调节表面电场能力,可针对电路器件上之短路及断路缺陷进行大范围扫描检测。具备千兆赫兹级高速高通量电子束图像采集速度和多样化功能齐全的检测算法,可提供每小时扫描检测面积超过200mm^2之高产出能力。同时,通过Die-to-GDS实现高度灵活客制化的检测区域,可有效提高缺陷 (Dark-VC/Bright-VC) 检测灵敏度,且能判断其短路和断路缺陷位于PMOS、NMOS、或是GATE之不同位置。凭借先进的成像技术和高度自动化的对多层级目标尺寸的在线量检测能力,eVC Series将为半导体制程提供高效的解决方案,满足14nm及以下集成电路工艺制程需求。
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