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锐晶激光用嘉仪通TC-Wafer校准仪对尤尼坦退火炉温度校准
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- 发布时间：2025-05-27
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【概要描述】在半导体制造领域，温度控制的精确性直接决定了产品的性能与良率。2023年8月30日，锐晶激光采用嘉仪···
锐晶激光用嘉仪通TC-Wafer校准仪对尤尼坦退火炉温度校准
【概要描述】在半导体制造领域，温度控制的精确性直接决定了产品的性能与良率。2023年8月30日，锐晶激光采用嘉仪···
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在半导体制造领域，温度控制的精确性直接决定了产品的性能与良率。2023年8月30日，锐晶激光采用嘉仪通TC-Wafer校准仪对尤尼坦退火炉进行温度校准，成功实现了对4吋砷化镓衬底晶圆的合金化工艺优化。此次校准的应用场景为440℃高温退火，保温30秒。
为什么选择TC-Wafer校准仪？
高精度测温：TC-Wafer校准仪采用先进的传感器技术，可实时监测晶圆表面温度，确保退火工艺的均匀性与稳定性，避免因温度偏差导致的材料性能缺陷。
快速响应：在440℃高温环境下，TC-Wafer仍能保持毫秒级响应速度，精准捕捉温度波动，为工艺优化提供可靠数据支持。
广泛兼容性：适用于4吋、6吋、8吋等多种晶圆尺寸，满足砷化镓、硅基等不同衬底材料的温度校准需求。
操作便捷：一体化设计，可快速部署至各类退火炉、扩散炉等热处理设备，大幅提升生产效率。
在本次校准中，锐晶激光通过TC-Wafer校准仪对尤尼坦退火炉的温控系统进行了全面验证，确保440℃合金化工艺的精确执行。使晶圆合金化效果更加稳定，良率进一步提高。
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