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01-19 2024

RTP对KNN薄膜中晶化退火的应用

       铌酸钾钠{(K, Na)NbO3, KNN}薄膜具有无铅的环境友好性、相对较高的压电系数和较高的居里温度等特点,从而被广泛研究用以替代PZT薄膜的使用,如在超声雾化、水声换能、生物医药等···
01-19 2024

RTP在PZT薄膜均匀性调控中的应用

       锆钛酸铅(PZT)薄膜具有优异的压电和介电性能以及与其他压电膜相比高的居里温度,已在多个领域进行应用,从微电子机械系统(MEMS)到超声波传感器,再到能量收集器,它都发挥着关键的作用[1···
01-06 2024

RTP退火炉在Zr基薄膜铁电性调控中的应用

随着HfO2和ZrO2基铁电薄膜的发展,铁电存储领域正经历着新的变革,这些新型薄膜材料有望突破传统瓶颈,诸如FeRAM、FeFET、FTJ相关的微缩性和集成性问题,为铁电存储器提供“卡脖子”新思路,逐渐成为关注的焦点。铁电材料是一种能够自发···
01-22 2023

快速退火炉的硬件更换

快速退火炉采用先进的微电脑控制系统和PID闭环控温,可达到较高的控温精度和温度均匀性,并可根据用户工艺要求配备真空室或多路气体。  快速退火炉采用卤素红外线灯作为热源,通过较快的升温速度将晶圆或材料快速加热至300°C-···
01-18 2023

快速退火炉设备说明

快速退火炉采用卤素红外线灯作为热源,通过较快的升温速度将晶圆或材料快速加热至300°C-1200°C,从而消除晶圆或材料的部分缺陷,提高产品性能。  快速退火炉采用先进的微电脑控制系统和PID闭环控温,可达到较高的控温精···
01-14 2023

快速退火炉用途

快速退火炉用途:  快速退火炉主要用于高速钢、冷热模具钢、不锈钢、弹性合金、高温合金、磁性材料和钛合金的真空热处理、真空钎焊和真空烧结。  快速退火炉结构特点:加热室采用不锈钢框架,隔热罩为多层石墨毡···
12-31 2022

快速退火炉结构和使用中的注意事项是怎么样的?

快速退火炉结构和使用中的注意事项是怎么样的?  快速退火炉一般采用碘钨灯管作为加热元件,加热速度快。温度测量和模糊PID控制采用s型热电偶,温度控制精度高& lt5.快速退火炉配有真空装置,可在各种气氛下工作。大大提高了它的···
12-30 2022

如何选择一家有实力的芯片晶圆热处理公司?

芯片晶圆热处理也是很常见的事情,在很多行业当中都是会用到它的。所以很多用户在采购它的时候都希望找到一家比较靠谱有实力的厂家来购买。这几年市面上也出现了不少的制造商,为了避免大家找到一些不好的公司,我们接下来就来分享一家有知名的企业吧。如果你···
12-24 2022

快速退火炉的使用要点

   手动操作时,操作员应根据快速退火炉的真空系统中泵和机器的位置以及模拟屏幕上显示的材料位置进行操作。抽真空时,先对加热室抽真空,再对冷却室抽真空,然后对冷却室放气,再对加热室放气。抽真空时,必须先打开空压机,再打开阀门,因为阀···
12-22 2022

芯片晶圆热处理的一些基本要点?

芯片晶圆热处理一般采用碘钨灯管作为加热元件,而且它的加热速快。所以说深受大家的青睐。为了让更多的人可以了解它,今天我们借助这个机会为小伙伴们来说一下在处理的时候要掌握的一些要点。关于这些信息你要是也感兴趣的话不妨来看看吧。芯片晶圆热处理主要···

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