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1吋快速退火炉 (RTP-3-01系列)

快速退火炉RTP-3-01系列采用红外辐射加热技术，可实现1吋(选配2吋)样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到极佳的温场均匀性，对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氮化(RTN)、快速热氧化(RTO)及金属合金化等研究和生产起到重要作用。
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快速退火炉RTP系列
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 产品技术参数

型号 RTP-3-01系列
最高温度 1200℃
最大升温速率 50℃/s
温度均匀性 ≦1%设定温度
温度控制 选用工业级温控器，控温精度±0.1℃
温度传感器 标准K型热电偶
最大降温速率

1200℃→400℃，200℃/min

400℃→100℃，20℃/min

（自然冷却）
最大样品尺寸 W20 x L20 x T2 (mm)
主机尺寸 W420X L320X H220 (mm)
主机重量 20.5kg

 

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产品特点
● 快速加热和降温: 最高可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。
● 精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。
● 适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，最高真空度可达10-3Pa。
● 配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。
● 超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，全方位保障仪器使用安全。
产品应用
● 强诱导体薄膜的结晶化退火
● 注入离子后的扩散退火
● 半导体材料的烧成与退火条件研究
● 快速热退火、热氧化和热氮化
● 电极合金化
● 晶向化和坚化
● 石墨烯等气相沉积
● 碳纳米管等外延生长
● 单晶基板热处理
● 键合炉
●栅极热处理
●其它薄膜热处理工艺
客户案例
● 华南理工大学
● 中国科学研究院上海微系统研究所
● 中国科学技术大学合肥微尺度物质科学国家研究中心
●清华大学
●……
Keyword:
快速退火炉
嘉仪通科技
真空热处理设备
真空退火
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4吋快速退火炉(RTP-3-04系列)
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