产品中心

红外退火炉 (IRLA)

产品名称

红外退火炉 (IRLA)

红外退火炉采用红外辐射加热技术同时搭配高精度温度控制系统，极大程度上改善了电阻式加热的弊病，同时可实现样品快速升温和退火。可广泛应用于强诱导体薄膜的结晶化退火、注入离子后的扩散退火、半导体材料的烧成与退火条件研究、快速热退火、热氧化和热氮化、电极合金化、碳纳米管等外延生长、单晶基板热处理等功能中，对新材料相关的RTP研究工作起到重要作用。

我要询价

产品特点及应用

产品技术资料

快速退火炉(LRTP)

液氮低温恒温器(LNT)

型号	IRLA-1200
温度范围	RT~1150℃
温控精度	±0.1℃
最大升温速率	45℃/s (真空)，40℃/s (氮气)
测试气氛	真空， N2 ，惰性气体
最大样品尺寸	20 x 20 x 2，单位mm（最大）
处理材料类型	薄膜、粉体、块体、液体
温度传感器	标准K型热电偶
额定功率	4x(1KW-110V/根）
温度程序模式	温度-时间设置，最高256步，32个程序，循环、保温等功能模糊PID逻辑控温，手动/自动开始，USB485连接
外观尺寸	420X320X220，单位mm
重量	20.5kg