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快速退火炉(LRTP)

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快速退火炉(LRTP)

产品名称

快速退火炉(LRTP)

温区宽,高精度控温可达±0.1K,制冷剂消耗少,真空度高,进口E型高精度热电偶
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快速退火炉LRTP-1200,采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(4英寸)快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到极佳的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)等研究工作起到重要作用。

 

快速退火炉应用案例

快速热处理,快速退火,快速热氧化,快速热氮化

离子注入/接触退火

SiAu, SiAl, SiMo合金化

太阳能电池片键合

电阻烧结

低介电材料热处理

晶体化,致密化

其他热工艺需求

 

快速退火炉产品特点

可测大尺寸样品  可测单晶片样品的最大尺寸为4英寸(100mm)。

快速控温与高真空  最高升温速率可达100℃/s,真空度最高可达到10Pa。

程序设定与气路扩展   最多可创建和存储32个程序、8个PID设定,实现不同温度段的精确测试。最多可扩展至4条工艺气路(MFC),应用不同气氛环境(真空、氮气、氩气、氧气、氢氮混合气体等)。

全自动智能控制  采用全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空、气氛、冷却水等均可实现自动控制。

超高安全系数   采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,全方位保障仪器使用安全

 

快速退火炉技术参数

 

型号

LRTP-1200

最高温度

1150℃

最高升温速率

100℃/s

最快降温速度

200℃/min(1000℃-->400℃)

控温精度

≤0.1℃

温场均匀性

≤0.5%

腔体冷却

水冷方式,独立冷却源

衬底冷却

氮气吹扫

工艺气路

MFC控制,4路(可选氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)

主机尺寸

450×625×535,单位mm

 

暂未实现,敬请期待
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