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快速退火炉(LRTP-1200)

快速退火炉LRTP-1200,采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(4英寸)快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到极佳的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)等研究工作起到重要作用。
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浏览量:
1005
产品编号
所属分类
高低温产品

相关附件

测量精度:
±1%FS
温度范围:
300-1200℃分段
响应时间:
<5ms
数量
-
+
库存:
1
产品技术参数
产品特点
相关应用
案例客户
型号 LRTP-1200
最高温度 1200℃
最高升温速率 150℃/s
最快降温速度 1200℃--400℃:30℃/s(特定条件下)
400℃--200℃:10℃/s(特定条件下)
控温精度 ±0.5℃
温场均匀性 ≤1.5%(设定温度)
腔体冷却 独立水冷
衬底冷却 氮气吹扫
气体流量 MFC控制
主机尺寸 450×625×530 (mm)

 

未找到相应参数组,请于后台属性模板中添加
产品特点
● 可测大尺寸样品:可测单晶片样品的最大尺寸为4英寸(100mm)。
● 快速控温与高真空:最高升温速率可达100℃/s,真空度最高可达到10Pa。
● 可测大尺寸样品: 可适用的样品最大尺寸为4英寸(100mm)。
● 快速控温与高真空: 最高升温速率可达150℃/s,真空度最高可达到10-3Pa。
● 程序设定与气路扩展: 可实现不同温度段的精确控制,进行降温段的自动转接,并能够对工艺菜单进行保存,方便调用。采用MFC精确控制气体流量,实现不同气氛环境(真空、氮气等)下的热处理。
● 全自动智能控制: 采用全自动智能控制,包括温度、时间、气体流量、真空、冷却水等均可实现自动控制。
● 超高安全系数: 采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施,全方位保障设备使用安全。
产品应用
● 快速热处理,快速退火,快速热氧化,快速热氮化
● 离子注入/接触退火
● SiAu, SiAl, SiMo合金化
● 太阳能电池片键合
● 电阻烧结
● 低介电材料热处理
● 晶体化,致密化
● 其他热工艺需求
客户案例
● 浙江大学硅材料重点实验室      
● 华为 
关键词:
4寸退火炉
RTP
快速退火
高真空
热处理
精准控温
热氧化
热氮化
结晶化
致密化
离子注入退火
键合
合金化
气路扩展
智能控制
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