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再度合作!嘉仪通科技和中科院半导体所携手共进

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再度合作!嘉仪通科技和中科院半导体所携手共进

  • 分类:客户动态
  • 作者:大S
  • 来源:
  • 发布时间:2021-08-09
  • 访问量:965

【概要描述】武汉嘉仪通科技4吋快速退火炉客户案例

再度合作!嘉仪通科技和中科院半导体所携手共进

【概要描述】武汉嘉仪通科技4吋快速退火炉客户案例

  • 分类:客户动态
  • 作者:大S
  • 来源:
  • 发布时间:2021-08-09
  • 访问量:965
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1956年,在我国十二年科学技术发展远景规划中,半导体科学技术被列为当时国家新技术四大紧急措施之一。为了创建中国半导体科学技术的研究发展基地,国家于1960年9月6日在北京成立中国科学院半导体研究所(以下简称半导体所),开启了中国半导体科学技术的发展之路。
半导体所拥有两个国家级研究中心—国家光电子工艺中心、光电子器件国家工程研究中心;三个国家重点实验室—半导体超晶格国家重点实验室、集成光电子学国家重点联合实验室、表面物理国家重点实验室(半导体所区);两个院级实验室(中心)—中科院半导体材料科学重点实验室和中科院固态光电信息技术重点实验室。此外,还设有半导体集成技术工程研究中心、光电子研究发展中心、半导体照明研发中心、高速电路与神经网络实验室、纳米光电子实验室、光电系统实验室、全固态光源实验室和元器件检测中心
半导体所和嘉仪通科技已合作多年,相关领导曾多次莅临嘉仪通科技武汉总部。在参观指导研发技术中心时,领导们对嘉仪通科技能够自主研发物性检测和半导体工艺设备且超欧美日同类产品,表达了高度的赞许,并对嘉仪通科技未来的发展充满了期待!
目前,该所已引进武汉嘉仪通科技数台物性检测和半导体工艺设备,其中4吋快速退火炉采用红外辐射加热技术,可实现大尺寸样品(4英寸样品)快速升温和降温,同时搭配超高精度温度控制系统,可达到极佳的温场均匀性,对材料的快速热处理(RTP)、快速退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等研究和生产工作起到重要作用。
快速退火炉
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